“三星故计重施，砸12亿重金买断EUV机台！”

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最近，世界各大半导体工厂夺走了先进的工艺，撞上巨款，向独家供应商艾司卷( asml )以1.5亿美元)折合人民币约10亿元)的价格下单了超紫外光微影设备) euv )。 据了解，在asml今年计划生产的12台euv机台中，三星制作了以下10台，三星除了考虑到asml生产不畅外，还趁机阻碍了台湾积体电路制造等其他同行业其他公司的量产进度。 详细情况请这边。

三星致力于7nm工艺是因为半导体工艺越来越先进，在10nm以下的先进工艺中，必须导入波长只有13.5的极紫外光( euv )，才能减少晶片制造的掩模数量，缩短晶片工艺。

目前，asml开发的euv设备相当昂贵，但三星已经在7纳米引入了euv，今后两年还将使用英特尔、台湾积体电路制造、Grogrophone等设备。

以前，由于光学镜片制造商CarlZeiss(CarlZeiss )的供给不足，asml的euv载物台的生产不顺利。 最后，三星如果真的垄断了这一重要设备，将阻碍其他同行业其他公司台湾积体电路制造的先进工艺研发进度，相当有利于三星扩大晶圆代工业务。

extreme ultraviolet lithography是基于euv的技术上的突破，也被称为euv光刻，是以波长1014的极紫外光为光源的光刻技术。 具体使用波长13.4纳米的软x射线。 极紫外线是指需要通过通电激励紫外线管的k极，放射紫外线。

据说euv光刻使用波长10-14纳米的极紫外光作为光源，可以将曝光波长一下子降低到13.5纳米，可以将光刻技术扩展到32纳米以下的特征尺寸。

目前光刻技术已成为现代集成电路设计上的最大瓶颈。 以往，cpu采用的45nm、32nm工艺都是用193nm浸液光刻系统实现的，但由于波长的影响，很难突破这一技术，使用euv光刻技术很好地应对了这一问题，也给行业带来了飞跃

euv和芯片公司取得胜利的关键是，三星以前在oled的市场争夺战中使用过相同的手段，从而捞到了甜头。 三星当时也从独家供应商日本canon tokki手中收购了生产的7台oled蒸镀机中的5台，只被同行的竞争对手lg display和中国大陆京东方各抢一台，以迅猛的发展赶不上三星。

而且，台湾积体电路制造作为世界上最大的半导体代理公司也很有特点。 它一直处于领先地位，获得了丰厚的利润，这为继续研发先进技术提供了资金支持，近两年来迫于三星增加了研发投入。

事实上，7纳米工艺上的竞争可能会引起全球两大芯片公司高通和苹果订单的变化，从行业来看，高通很可能将明年的高端芯片三星845交给台湾积体电路制造，三星赢得了苹果a12解决方案的订单

来源：UI科技日报